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国产先进大型真空共晶炉H5

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国产先进大型真空共晶炉H5

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大型真空共晶炉 H5/H6_北京中科同志科技股份有限公司

设备简介: 1、观察系统:腔体带可视窗口, 可实时观察焊接过程, 2、加热系统:设备配置5/6套加热系统,同时在真空环境下进行工作。 3、真空系统:设备配置直联高速旋片式真空泵真空共晶炉设备简介: 1、观察系统:腔体带可视窗口, 可实时观察焊接过程, 2、加热系统:设备配置5/6套加热系统,同时在真空环境下进行工作。大型真空共晶炉 H5/H6_北京中科同志科技股份有限公司

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产品中心 / 真空回流焊_北京中科同志科技股份有限公司

真空共晶炉/真空回流焊机—V5 【简介】 1、V系列真空回流焊机取自英文VACUUM 首写 大型真空共晶炉 H5/H6 应用领域:IGBT模块、MEMS封装、大功率器件 真空共晶炉设备简介: 1、观察系统:腔体带可视窗口, 可实时观察焊接过程, 2、加热系统:设备配置5/6套加热系统,同时在真空环境下进行工作。大型真空共晶炉 H5/H6_SMT贴片机-真空回流焊接-pcb丝印机

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半导体设备-真空共晶炉-真空回流焊接-TORCH中科同志科技

真空共晶炉—V4 在线式真空回流焊 —— V6/V6L 真空共晶炉/真空回流焊机—V5 V系列真空回流焊/共晶炉—V3 RS系列真空回流焊 RS110 RS系列真空回流焊 设备说明:. 1、焊接温度:V2型真空共晶炉实际焊接最高温度≥450℃。. 2、真 空 度:最小真空度≤3 Pa 工作真空10-200Pa。. 3、有效焊接面积:≥210mm*200mm. 4、炉膛高度: ≥100mm。. 5、加热方 真空共晶炉V2_北京中科同志科技股份有限公司

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中科同志将携新款真空共晶炉、除气炉亮相中国光博会-电子

真空共晶炉:多款自主研发的真空共晶炉,适用于不同行业、不同焊接需求、不同的气氛环境和温度。 在线式真空炉:专为引线框架产品、LED产品、模块产品的 甲酸真空共晶炉—V5 甲酸真空共晶炉—V4 V系列甲酸真空回流焊—V3 RS系列甲酸真空回流焊 RS220 RS系列甲酸真空回流焊 RS160 RS系列甲酸真空回流焊 按照产品分类 / 甲酸真空炉_北京中科同志科技股份有限公司

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HV3型真空共晶炉:电子制造焊接过程的关键解决方案

一、功能介绍. 焊接温度: HV3型真空共晶炉实际焊接最高温度可达500℃,适用于各种高温焊接材料。. 真空度: 压强≤5Pa,极限直空度<10-4Pa,工作真空度为10-4Pa,具备优异的真空性能。. 加热板尺 真空共晶炉:多款自主研发的真空共晶炉,适用于不同行业、不同焊接需求、不同的气氛环境和温度。 在线式真空炉:专为引线框架产品、LED产品、模块产品的真空焊接设计。 真空除气炉 :VDf系列真空除气炉,200-1200度高温,10^-7Pa高真空。中科同志将携新款真空共晶炉、除气炉亮相中国光博会-电子

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真空回流焊_真空共晶炉_贴片机_丝印机–【北京中科同志科技

主营产品: 真空回流焊 真空共晶炉 贴片机 丝印机 进入店铺 询 盘 查看营业执照 资质核验 已核验企业营业执照 北京中科同志科技股份有限公司 主营产品:真空回流焊、真空共晶炉、贴片机、丝印机V2型真空共晶炉在真空共晶焊接时,经过大量客户验证,空洞率可控制在2%以下。 10、可选正压模块: 设备可以选配正压模块≤0.3Mpa,可满足正压、负压工艺要求。正压工艺可有效解决 微小器件 真空共晶炉V2_北京中科同志科技股份有限公司

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2023年快克股份研究报告 进军半导体封装设备打开成长空 间

3.1、 以二级封装技术经验为基,内生外延拓展烧结炉、共晶炉、固晶机 3.1.1、 公司产品用于芯片封装固晶、键合环节 精密焊接和半导体封装固晶键合工艺技术具有相通性,特别是固晶工艺段,所 用设备和公司在 3C 领域用到的焊接设备相似,公司从 3C 设备转向半导体设备在焊 接技术以及自动化在线式甲酸真空回流焊 ―― V6/V. 简介: 1. V系列甲酸真空回流焊机取自英文VACUUM 首 共 1 页 12 条记录. 甲酸真空炉,大型甲酸真空炉,小型甲酸真空炉,通道式甲酸真空炉——同志科技,SMT行业设备智选品牌.产品中心 / 甲酸真空炉_北京中科同志科技股份有限公司

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大型甲酸真空炉--H5/H6_北京中科同志科技股份有限公司

H5 H6 焊接面积 500*300*70mm*5层 500*300*70mm*6层 炉膛高度 70mm 单层承重 20KG 最高温度 本页关键词:甲酸真空回流焊,甲酸真空共晶炉,甲酸真空回流炉,甲酸真空焊接炉,真空共晶回流焊接炉,也叫真空回流炉、真空共晶炉、真空焊接炉、真空钎焊炉、真空烧结炉等,它是一种在真空环境下对产品进行高质量的金属焊接专用设备。 其主要特点是在升温或者降温过程中通入还原性工艺气体(如:N2、甲酸、N2H2、H2等),用以保护产品和焊料不被氧化,同时将产品和焊料如何选择真空回流炉?

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你了解真空共晶炉吗?请读读这篇文章 哔哩哔哩

一、真空共晶炉的特点高效加热:真空共晶炉的加热效率非常高,加热效率可达90%以上。得益于先进 的加热技术,例如电子束辐射、微波加热、红外加热等,快速加热和均匀加热成为可能。节能环保:真空共晶炉采用无氧化加热方式,避免了传统共晶焊时形成的空洞会降低器件的可靠性,扩大IC断裂的可能,并会增加器件的工作温度、削弱管芯的粘贴能力。. 共晶后焊接层留下的空洞会影响接地效果及其它电气性能。. 消除空洞的主要方法有:. (1) 共晶焊 前清洁器件与焊料表面,去除杂质;. (2)共晶 IGBT模块无空洞真空焊接,如何用真空共晶炉进行焊接?

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真空共晶炉原理

真空共晶炉的主要原理就是利用真空去除空洞,氮气气氛和还原性气氛是附加条件,客户应当根据自己的产品要求和经济水平进行选择。. 传统回流焊+真空模块:优点是理论来说可以在现有的回流焊产线中进行改进,缺点是除真空体系的模块外其他部分不能完 H5 H6 焊接面积 500*300*70mm*5层 500*300*70mm*6层 炉膛高度 70mm 单层承重 20KG 最高温度 本页关键词:真空共晶炉,真空回流焊,大型真空共晶炉, 半导体焊接 相关产品 RS系列真空回流焊 RS220 RS系列真空回流焊 RS160 RS系列真空回流焊 大型真空共晶炉 H5/H6_SMT贴片机-真空回流焊接-pcb丝印机

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探秘甲酸真空共晶炉—满足各种高温焊接要求的理想设备

此外,甲酸真空共晶炉具有高产能的特点,设备每层实际焊接面积为 500*300mm,多层同时工作,实现器件大批量生产。此外,设备可以满足金锡焊片、高铅焊料、无铅锡膏等材料的高温焊接要求和焊锡膏真空环境高质量焊接的技术要求。如果要实现规模化生产,甲酸真空炉可以解决规模化生产的问题。受益于真空泵国产化,泛半导体真空泵进口替代加速. 真空泵为泛半导体设备核心零部件,2021 年市场规模 364 亿元人民币。. 真空泵是指利用机械、物理或化学方法在某一封闭空间中产生真空环境的装置。. 按照真空度和气压范围来划分,真空泵可分为低真 受益于真空泵国产化,汉钟精机:泛半导体真空泵进口替代

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2023-2029全球与中国自动真空共晶炉市场现状及未来发展趋势

内容概括. 2022年全球自动真空共晶炉市场销售额达到了 亿美元,预计2029年将达到 亿美元,年复合增长率(CAGR)为 %(2023-2029)。. 地区层面来看,中国市场在过去几年变化较快,2022年市场规模为 百万美元,约占全球的 %,预计2029年将达到 百万美元,届时全球熔点为280°C的共晶Au80Sn20合金焊料具有高强度、高热导率、免助焊剂等优异性能,且对镀金层焊盘有天然的适应性,因此是各种高端器件、光电子器件和功率电子器件的理想封装材料。在原创性的器件研发发过程中,金锡共晶焊方案也成为首选的工艺方案。金锡合金焊料应用进展及真空焊接工艺_TORCH赵永先_新浪

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共晶贴片机使用时的温度需要注意什么?中科同志科技来回答

真空共晶炉 分类: 3D芯片堆叠 共晶贴片的一起热导率使得它比银胶环氧更适合应用于高功力产品或射频放大器。那共晶贴片机在使用时的温度要益发 益发(IVA)工业炉有限公司成立于1984年。公司总部位于欧洲最大的工业区–德国鲁尔工业区内。公司拥有自己的设计、研发人员和生产基地,为全球客户提供多种热处理工业炉设备。公司自成立以来不断发展壮大,市场占有率逐年提高,优秀的产品性能和完善的售后服务为德国益发(IVA)工业所有真空炉厂家(国内+国外) 〖真空炉专版〗 热处理论坛

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甲酸真空回流焊--H3_SMT设备贴片机-甲酸回流焊炉-pcb丝印

甲酸 真空回流焊 H3设备简介:. 1、观察系统:腔体带可视窗口, 可实时观察焊接过程, 2、加热系统:设备配置3套加热系统,同时在真空环境下进行工作。. 3、真空系统:设备配置直联高速旋片式真空泵,可快速实现炉腔达到0.1mbar高真空环境。. 4、冷却系 国产半导体设备厂商梳理 半导体行业观察. 来源:本文由微信公众号 半导体行业观察(ID:icbank)原创。. 前些天,我国本土半导体设备传来好消息,中微半导体设备(上海)有限公司自主研制的5nm等离子体刻蚀机经台积电验证,性能优良,将用于全球首 国产半导体设备厂商梳理 半导体行业观察

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产品中心 / 真空回流焊_北京中科同志科技股份有限公司

大型真空共晶炉 H5/H6 应用领域:IGBT模块、MEMS封装、大功率器件封装、光 V系列高真空真空回流焊/ 共晶炉— 【 真空 回流焊 机V3取得2014年中国电子装备工业设 高真空真空共晶炉—V4 【简介】 1、V系列高真空 真空回流焊机 取自英文VAC1、什么是共晶 共晶是指在相对较低的温度下共晶焊料发生共晶物熔合的现象。共晶合金的基本特性是:两张不同的金属可在远低于各自的熔点温度下按一定比例形成共熔合金,共晶合金直接从固态变到 真空共晶焊接是什么样的工艺?

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真空共晶炉:半导体芯片的制胜法宝,探索其神奇魅力-电子

随着科技的飞速发展,电子产品日益普及,半导体芯片作为电子产品的核心部件,其性能和稳定性对产品质量具有举足轻重的影响。因此,提高半导体芯片的性能和稳定性是行业关注的重要课题。本文将详细介绍真空共晶炉这种先进的半导体芯片共晶处理技术及其在各领域的应用。真空共晶炉是一个关键的设备,用于制造和处理各种材料,尤其是在微电子和纳米技术领域。这种设备的核心组件之一就是加热板。在本文中,我们将详细介绍真空共晶炉的加热板,包括其结构,功能,以及在整个真空共晶过程中的作用。首先,我们需要了解什 掌控热量,塑造材料:深入了解真空共晶炉的加热板 哔哩哔哩

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真空共晶炉—V4_北京中科同志科技股份有限公司

真空<5Pa. (选配分子泵真空可达 10-3Pa) 2、低活性助焊剂的焊接环境。. 3、触摸屏的操控加上专业的软件控制,达到好的操作体验。. 4、高达行业40段的可编程温度控制系统,可以设置工艺曲线。. 5、温度设置采用触摸式升降,直接手拉曲线,就能设置出更 中科同志科技Getter热激活真空焊接炉亮相SEMICONCHINA2020展会 时间: 11:20 来源:同志科教 作者:同志科教 点击: 次 中科同志科技 Getter热激活真空共晶炉 亮相 SEMICON CHINA 2020 展会 近日,SEMICON CHINA 202 0在上海开展,覆盖半导体材料、芯片、模块、设备等行业产业链,来自于国内外的 上千 家企业参展。中科同志科技Getter热激活真空焊接炉亮相

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【国产纳米银低温烧结炉 机械压纳米银工艺 SIN100】价格

国产纳米银低温烧结炉 机械压纳米银工艺 SIN100. 纳米银/纳米铜正压烧结炉,主要以机械压力固化为主,在施压设备选择上,本设计使用***液压控制系统,实现***施压。. 在整体炉腔及结构设计上采用真空密封结构设计,在固化时可在真空环境或其他惰性气 3、真空系统:设备配置直联高速旋片式真空泵,可快速实现炉腔达到0.1mbar高真空环境,最高真空度0.01mbar。 4、冷却系统:设备采用水冷却系统,保证在高温真空环境下可以快速降温。大型甲酸真空炉--H5/H6_北京中科同志科技股份有限公司

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晶升股份研究报告:碳化硅和半导体级单晶炉领先者

1、半导体和碳化硅长晶炉领先者,绑定头部客户实现快速发展 1.1、深耕半导体和碳化硅单晶炉,绑定沪硅率先突破大硅片单晶炉 公司是国内从事半导体级和碳化硅晶体生长设备制造和销售的领先企业,率先突破 12 寸半导体单晶硅炉国产化。

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